绘 huì:左右结构,左收右展。
左部“糹”旁位置靠上,取斜势,不要写宽。上面撇折起笔稍重,向左下方弯行,渐轻,到位后顿笔向右下方写折,略弯,勿长;第二个撇折起笔勿远,撇身勿重,稍立,稍直,到位后轻顿写提,勿长;右点要收敛,以让右;下面三点沿着上面的走势布局,由大渐小,注意指向,整体稍偏左,以让右部。
右部“会” 字上宽下窄,重心对正。上面“人”左收右展:撇笔高起,注意行笔角度和长度;捺从撇画中实接入笔,一波三折,捺角稍高于撇尖。下面字形勿宽:小横虚接起笔,大抗肩,勿长;“由”字上宽下窄,整体抗肩,中竖稍偏左,垂直有力;“日”紧靠上面,两竖左轻右重,左短右长,要支撑住“田”字两竖的下端,横画勿重,抗肩与上面协调,注意形态的变化。
唐 · 颜真卿 · 多宝塔碑
唐 · 柳公权 · 玄秘塔碑
唐 · 褚遂良 · 伊阙佛龛碑
元 · 赵孟頫 · 寿春堂记
宋 · 米芾 · 面谕帖
元 · 赵孟頫 · 天冠山诗帖
明 · 董其昌 · 自题临古
孙过庭
版权声明:本文内容由网友提供,该文观点仅代表作者本人。本站(http://www.cangchou.com/)仅提供信息存储空间服务,不拥有所有权,不承担相关法律责任。如发现本站有涉嫌抄袭侵权/违法违规的内容, 请发送邮件至 3933150@qq.com 举报,一经查实,本站将立刻删除。