光刻机和我们的生活相隔很远，但是却又处处都有它的身影。这是因为光刻机本身的作用。光刻机又名，掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻。通俗易懂的说，光刻机就是在制造芯片时不可或缺的工具，没有光刻机就没有芯片。那么问题来了，国产光刻机可以达到多少纳米？让我们赶紧一起来看看吧。感兴趣的朋友也可以借鉴参考一下。
国产光刻机可以达到多少纳米
一般认为能做90-180nm的芯片，更高的应该是做不了。光刻机是制作芯片的关键设备，利用光刻机发出的紫外光源通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的硅片曝光，使光刻胶性质变化、达到图形刻印在硅片上形成电子线路图。我国目前还是采用什深紫外光的193nm制程工艺。
光刻机是干什么用的
光刻的工作原理是在硅片表面覆盖一层具有高度光敏感性光刻胶，再用光线（一般是紫外光、深紫外光、极紫外光）透过掩模照射在硅片表面，被光线照射到的光刻胶会发生反应。光刻完成后对没有光刻胶保护的硅片部分进行刻蚀，最后洗去剩余光刻胶， 就实现了半导体器件在硅片表面的构建过程。看起来好像光刻机的工作原理不是特别复杂，但实际上的难度很大，需要非常强的光刻技术，而掌握全球最强光刻技术的就是荷兰。
光刻机是需要时间、技术和财力多方积累堆砌而成的科技产物，就算是国家倾力研发也需要一定时间。不过中国也不是完全做不出，经过资源整合和技术研发，中国目前已经具备量产14nm精度光刻机的技术。但从客观上看来14nm和7nm还差了一大截。
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